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无水生产厂家具有介电常数高、低黏度和宽的液态范围等特点，因而是一种很好的溶剂。本身会发生自偶电离，无水是一种酸性很强的溶剂，其酸度与无水硫酸相当，能给予无水质子的物质很少，在水中很多呈酸性的化合物在无水中呈碱性或者是两性。
的物理性质：
市售通常浓度：溶质的质量分数40%，工业级；质量分数40%，电子级。为高度危害毒物。浓时的密度1.18g/cm3
随着HF溶液质量分数的提高，HF对碳钢的腐蚀速率是先升高后降低。
的化学性质：
浓度低时因形成氢键具有弱酸性，但浓时（5mol/L以上）会发生自偶电离，此时是酸性很强的酸了。
液态是酸性很强的酸，酸度与无水硫酸相当，腐蚀性强，应在密闭的塑料瓶内保存。
用HF（）溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得在水中不能完全电离。

是气体的水溶液，清澈，无色、发烟的腐蚀性液体，有剧烈性气味。熔点-83.3℃，沸点19.54℃，闪点112.2℃，密度1.15g/cm³。易溶于水。
因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，且水溶液中分子间存在氢键，使得在水中不能完全电离，所以理论上低浓度的是一种弱酸。具有很强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成严重的灼伤。实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）和来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。

由于溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。也用来蚀刻玻璃，可以雕刻图案、标注刻度和文字；半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和正丁烯的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到。也用于多种含氟**物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂。

的用途：
由于溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。也用来蚀刻玻璃，可以雕刻图案、标注刻度和文字；半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，在炼油厂中它可以用作异丁烷和正的烷基化反应的催化剂，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到。也用于多种含氟**物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂。 
和熔融氢氧化钠都能用于微丝表面玻璃包覆层的去除，室温下去除厚度为10 μm的玻璃包覆层的时间大约为150s，熔融氢氧化钠大约需要10s；玻璃的成分和结构是影响玻璃包覆纯铜微丝耐腐蚀性能的重要因素。
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